SamsungとMentorが20nmプロセス向けDFMリファレンス・ソリューションを完成
2012年3月1日、Mentor Graphicsは、Samung Electronicsと共同でSamsung 20nmプロセス向けのDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションを完成させたと発表した。
Samsungはこれまでも32/28nmプロセス向けに、Mentorの「Calibre」をベースとしたDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションとして「Calibre」のキットを顧客に提供していたが、今回最先端の20nmプロセス向けのキットを完成させその評価を終えた。
Samsungの20nmプロセスに対応するDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションには、「Calibre LFD」、「Calibre nmDRC」、「Calibre YieldAnalyze」が含まれているという。
= EDA EXPRESS 菰田 浩 =
(2012.03.02
)