eBeam InitiativeにMentor、Applied Materialsほか5社が新メンバーとして加入

2011年9月12日、マスクレス製造技術「design-for-e-beam (DFEB) 」の普及・促進を目標としたフォーラムeBeam Initiativeは、新たに5社がメンバーに加わったことを発表した。

発表によると、新たにApplied Materials, IMS CHIPS, Mentor Graphics, Multibeam Corporation, SoftJin Technologiesの5社がeBeam Initiativeのメンバーに加入。これで業界20社で立ち上げられた同組織のメンバー企業・団体数は39社となった。

尚、eBeam Initiativeは、9/19よりカリフォルニア州モントレーで開催される「SPIE/BACUS Photomask Symposium 2011」にて、メンバー会社によるマスク技術および直描技術の最新の成果を報告するという。