セマテックとシノプシス、最先端OPCモデルの共同開発を発表

2005年10月4日、シノプシスと主要半導体企業のコンソーシアムであるセマテック（SEMATECH）は、光リソグラフィー技術の延命を可能にする最先端の光学近接効果補正（OPC）モデルを共同開発すると発表した。

プレスリリース：http://www.synopsys.co.jp/pressrelease/2005/20051004-2.html

今回のプログラムの主要な目的は、45nm以降のプロセスノードで直面する課題の理解を促進することにより、コンソーシアムの参加企業がこれらの課題に対応するツールや製造プロセスの開発を可能にすることにあり、本プログラムでは、業界をリードするシノプシスのマスクシンセシス・ツールProteusを採用している。

発表によると、初期のモデリング結果は良好で、1.3NA(開口度)を使用した液浸ツールを45nmハーフピッチ向けにイメージ補正できることを示しており、最終的には、液浸リソグラフィーを32nmハーフピッチでも使用可能にし、1.55より大きなNAの光学ツールでモデルを提供することを目標にしているという。（プレスリリース要約）