米KLA-Tencor、45nm以降のフォトマスク量産に対応した検査装置「TeraScanHR」を発表

2007年3月15日、ウェーハ検査装置の大手米KLA-Tencor社は、45nm以降のフォトマスク量産に対応した検査装置の新製品「TeraScanHR」を発表した。

プレスリリース：http://www.kla-tencor.co.jp/news/pdf/070322.pdf

既に多数のシステムを出荷し、45nmの試作/32nmの開発用途でも受注を獲得しているという「TeraScanHR」の最大の特徴は、45nm以降の微細な欠陥に対応する高解像度のイメージング機能とOPC形状の処理を正確に行う新たなデータベースモデリング・アルゴリズムの2点で、これら新機能に最新のスーパーコンピュータテクノロジを組み合わせる事によって、高品質なフォトマスク検査と高いスループットを実現することができる。

また「TeraScanHR」は、複数のピクセルサイズ中から目的に合ったコンフィギュレーションを選択することによって、あらゆる世代のチップに対応可能。従来よりも検査コストを低減・最適化できるというメリットも持ち合わせているという。

※「TeraScanHR」に関する詳細は、KLA-Tencor社にお問い合わせ下さい。
http://www.kla-tencor.co.jp