米Atrenta社がデザイン解析技術に関する5つの米国特許を取得
2007年2月22日、業界標準ツール「SpyGlass」をはじめとしたRTL解析ソリューションを手掛ける、米Atrenta社は、新たにデザイン解析技術に関する5つの米国特許を取得したと発表した。
プレスリリース:http://www.atrenta.com/Links/Company_Atrenta_News_Details.aspx?strNAID=NA00000054(英文)
Atrentaによると取得した特許は全てRTL解析に関するもので、その内容は以下の通り。これら特許技術はRTL段階でのデザイン解析ソリューションを更に拡充するもので、時間的・費用的設計コストの削減に貢献するという。
■US patent 6.876.934「Method for Determining Fault Coverage from RTL Description」
RTL解析の最終的なカバレッジを正確に予測する技術
■US patent 6.993.733「An Apparatus and Method for Handling of Multi-Level Circuit Design Data」
抽象度の高いRTL記述を設計の早期段階で評価する技術
■US patent 7.076.748「Method for Efficient Identification and Implementation of Clock Gating of Integrated Circuits」低消費電力化のためのクロックゲーティング挿入技術
■US patent 7.073.146「Automatic Assertion Generation for Functional Validation of Integrated Circuits」
デザイン中の不安定なクロックドメインの交差を自動検出し安定化を図る技術
■US patent 7.152.216「Method&knm System&knm and Computer Program Product for Automatic Insertion and Correctness Verification of Level Shifters in Integrated Circuits with Multiple Voltage Domains」デザインにレベルシフターモジュールを自動挿入し検証する技術
※新たな特許技術に関する詳細は、アトレンタ株式会社にお問い合わせ下さい。
http://www.atrenta.com
= EDA EXPRESS 菰田 浩 =
(2007.03.01
)