「65nm以降のP&Rはメンターの時代」ESL、DFMも展望は明るい>>メンターEDA Tech Forum 2007

2007年9月7日、メンター・グラフィックスは、品川の東京コンファレンスセンターにて世界各地、計18都市で開催されている恒例の「EDA Tech Forum 2007（東京）」を開催。設計者を中心に1000人近い参加者を集めた。

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今年のEDA Tech Forum 2007は、Chip Design、PCB Design、Management、Automotiveと4つのトラックに分かれ計29のセッションを実施。Altera、MathWorks、ARM、Common Platform、Sun Microsystem、Hewlett-Packard、Thymos TechnoLogicの7社が協賛企業として参加した。

基調講演を行ったメンターCEOのWalden C. Rhines氏は、ナノメーター世代に向けて必要となるテクノロジを紹介する中で、プロセス技術の進化に伴う配置配線ツールの技術革新と市場シェアについて解説。0.13μmでブレイクしたマグマの次に65nmでブレイクするのはメンターであると力説し、今年買収したSierraの配置配線ツールの売上は、4年後には約10倍の200Mドルに達するという予測を示した。また、システムレベルの設計手法、すなわちESLの重要性についても時間をかけて説明。ESLフロントエンドのSummit製品群や動作合成ツール「Catapult Synthesis」など、同分野ではメンターが他社よりも一歩リードしている事を暗にアピールした。

尚、メンター主力の「Calibre」製品群については、台風の影響で急遽講演を行ったJeff Wilson氏（Calibre Product Marketing Manager）がDFM分野におけるその優位性を詳細に解説。Jeff Wilson氏によると、Physical Analysis、Electricai Analysis、Layout Enhancement、Manufacturing Testと大きく4つのカテゴリに分かれるDFMソリューションの全てに対応しているのは「Calibre」を中心としたメンターのソリューションだけ。また、メジャーなインプリメントツールとのインタフェースを備え、メジャーなデザインデータベースにも全て対応（MagmaのVolcanoを除く）しているのもメンターだけと、メンターのDFMソリューションの中立性と包括性を強調。それを表す実績として、最新のDFMツールである「Calibre LFD」、「Calibre Yield Analyzer」、「Calibre Yield Enhancer」の3製品は、TSMC、UMC、IBM/Samsung/Charterd、ST Micro、SMICといった大手FABに65nm向けツールとしてほぼ全面的に採用されているというデータを示した。

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