Synopsysが仏CEA-Letiのマスクレス・リソグラフィ開発プロジェクトに参加

2011年9月19日、フランス原子力庁の電子・情報技術研究所CEA-Letiは、同研究所のマスクレス・リソグラフィ開発プロジェクトにSynopsysが参加した事を発表した。
「IMAGINE Program」と呼ばれている同プロジェクトは、CEA-LetiとオランダMAPPER Lithography社が2009年7月に立ち上げたもので、STMicroelectronics,TSMC,Mentor Graphicsらが参画しており、今回Synopsysが10社目のメンバーとなった。
プロジェクトとしては、大規模データをハンドリングするための標準フォーマットの確立を目指しており、その課題解決に向けてSynopsysの協力に期待しているという。

= EDA EXPRESS 菰田 浩 =
(2011.09.20 )