IBMと凸版印刷が14nm対応フォトマスク製造プロセスを共同開発

2011年1月17日、凸版印刷とIBMは、14nm対応のフォトマスク製造プロセスを共同開発する事を発表した。

発表によると両社の共同開発は、2011年1月から2012年にかけて、IBMバーリントン・フォトマスク工場と凸版印刷の朝霞フォトマスク工場で行われる予定。

凸版は14nm世代に向けて新技術であるEUVリソグラフィ（超紫外線露光技術）を開発する予定。プレスリリース文によると、業界では14nm世代は光学リソグラフィのみでサポートされる最後の世代になるという見方が強く、この世代がEUVリソグラフィへの分岐点になると言われているようだ。