NECエレ、65nm製品に向けてシノプシスのPSM技術を採用

2005年12月19日、シノプシスは、NECエレクトロニクスがシノプシスのPSM（phase-shift mask）技術を採用したと発表した。

プレスリリース：http://www.synopsys.com/news/announce/press2005/snps_psmtech_nec_pr.html（英文）

NECエレクトロニクスは、65nmテクノロジを用いた高性能プロセッサやロジック・チップの生産に向けて同技術を採用したという。

採用されたPSM技術は、シノプシスの包括的なDFM（design for manufacturing）ソリューションの一部で、この技術により、歩留まりの向上、リーク電流の削減、CD制御によるチップ性能の向上を図る事ができる。

※シノプシス製品に関する詳細は日本シノプシスにお問い合わせ下さい。　http://www.synopsys.co.jp/