メンター、新たなDFMツール「Calibre LFD」を発表>>今度は描画可能性の事前検証

2006年3月7日、メンター・グラフィックスは、メンターのDFMソリューションを拡大する新製品「Calibre LFD （Litho-Friendly Design）」のリリースを発表した。

プレスリリース：http://www.mentorg.co.jp/news/2006/060307.html

発表された「Calibre LFD」は、プロセスの変動をとらえてレイアウトの確実性を高めることができるツールで、レイアウト設計者が設計の早い段階で、特定のリソグラフィック・プロセス・ウィンドウ下でどのようにレイアウトが描画されるかを確認することが可能。

具体的には、ファウンドリやファブから提供される「LFD」キットを用いたシミュレーションと、プロセス変動に対する設計の耐性計算によって描画の可能性を判別する仕組みで、異なるレイアウトを比較し、プロセス変動の影響を受けにくい設計のトレードオフを判断することができる。
※「LFD」キット：データベース化されたエネルギー、ドーズ量、マスク・バイアス条件、RET設定、プロセス・モデル、チェック対象となるパラメタライズ可能なルール等が含まれる

メンターは、今年1月にもRET(Resolution Enhancement Technique)検証ツール「Calibre OPCverify」を発表したばかりで、今回の「Calibre LFD」のリリースも含め、65nmプロセスに向けたDFMツール戦略に相当な力を注いでいる。

※「Calibre LFD」に関する詳細は、メンター・グラフィックス・ジャパンにお問い合わせ下さい。
http://www.mentorg.co.jp