メンターのDFMソリューション「Calibre」がTSMCの65nmテクノロジをサポート

2006年5月22日、メンター・グラフィックスは、同社のDFMソリューション「Calibre」シリーズの各ツールが、TSMCの65nmテクノロジをサポートすると発表した。

プレスリリース：http://www.mentorg.co.jp/news/2006/060522.html

Calibre Design-to-Siliconプラットフォームが提供する統合DFMソリューションには、以下のツールが含まれており、TSMCの65ナノメータ・テクノロジで許容できる歩留まりの達成を可能にするという。

◆Calibre LFD：リソフレンドリ設計のための機能を提供
◆Calibre YieldAnalyzer：クリティカル・エリアならびに推奨ルールを解析
◆Calibre YieldEnhancer：自動的なレイアウト改良を実行
◆Calibre xRC：DFMを考慮したシリコン・モデリングを実現

特に、「Calibre LFD」ツールは、初期の設計段階でリソグラフィ・プロセスの変動をどのように考慮するかという緊急課題に対応した製品で、「Calibre LFD」によって、設計者はよりロバストでリソグラフィック・プロセス・ウィンドウの影響を受けにくい設計を実現するためのトレードオフ意思決定を行うことができる。

また、設計者は、DRCキットと同様の形で提供される「LFDキット」用いてシミュレーションを行い、特定のリソグラフィック・プロセス・ウィンドウにおいてレイアウトがどのように描画されるかを検証することが可能。これによりレイアウト設計段階で「ホットスポット」を見つけ出すことができ、設計に対して「LFDクリーン」なサインオフを達成できるようになる。

※「Calibre」シリーズの各製品に関する詳細は、メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社にお問い合わせ下さい。
http://www.mentorg.co.jp

※TSMC（Taiwan Semiconductor Manufacturing Company）
http://www.tsmc.com