富士通、NECエレ、ルネサス、東芝、45nm以降のプロセス技術の標準化に合意

2006年6月13日、富士通、ＮＥＣエレクトロニクス、ルネサステクノロジ、東芝の4社は、45nm以降の半導体製造に向けてプロセス技術の標準化を目指すことに合意した。

プレスリリース：http://www.necel.com/ja/news/archive/0606/1302.html（NECエレ）

発表された標準化は、各社の設計資産の有効利用を目的としたもので、工場の稼働率の改善や大規模な設備投資の実現など、日本の半導体業界全体に対する経済効果も期待されている。

具体的には、今後各社共同で標準規格の内容検討を進め、本年末までに標準規格を策定する予定で、今回の標準化は、日立、東芝、ルネサスの3社が出資して設立した「先端プロセス半導体ファウンドリ企画株式会社」の提案している45nm以降の標準化推進の趣旨も踏まえて4社が具体的に進めるものだという。

※富士通　http://jp.fujitsu.com
※NECレクトロニクス　http://www.necel.com
※ルネサス・テクノロジ　http://japan.renesas.com
※東芝　http://www.toshiba.co.jp