UMC、発表間もないメンターの「Calibre nmDRC」を採用>>TSMCは65nm向けとして認定

2006年8月8日、メンター・グラフィックス社は、UMC社が、同社の次世代プロセス・テクノロジに対してレイアウト検証ツール「Calibre nmDRC」を採用したことを発表。同日、TSMC社が「Calibre nmDRC」を65nmプロセス向けツールとして認定した事を明らかにした。

プレスリリース：
http://www.mentorg.co.jp/news/2006/060808_3.html（UMC関連）
http://www.mentorg.co.jp/news/2006/060808.html（TSMC関連）

新たに発表されたばかりの「Calibre nmDRC」は、65nm以降のプロセス・テクノロジに向けたサイオンフ精度のレイアウト検証ツールで、LVS（layout vs. schematic）、寄生素子抽出（xRCおよびxL）、DFM（クリティカル・エリアアナリシス、推奨ルール解析、ビア・ダブリング）および配置配線環境への設計データベース・バックアノテーション機能などが含まれている。

※関連ニュース「メンター、処理時間を劇的に短縮するDFM対応の次世代DRCツールを発表」
https://www.eda-express.com/news/?m=p&idno=562

UMC社は、これまで長年に渡りメンターの「Calibre DRC」を物理検証プロセスにおける標準サインオフ・ツールとして使用してきており、今回の採用は65nmプロセスを利用する顧客サポートに向けた、ある意味「自然な流れ」と言える。

「Calibre nmDRC」の最大の特徴は、新しい「Hyperscaling機能」による処理の劇的な高速化で、複数CPUによる分散処理によって20GBクラスのGDSデータを2時間で処理する事も可能。これまで一晩二晩は当たり前だったDRC処理の実行時間を大幅に改善し生産性を向上することができる。

尚、UMC社の採用発表と同時にTSMC社も「Calibre nmDRC」を65nm用として認定。メンターとTSMCは引き続き協力関係を維持し、ファブレス企業顧客をサポートしていく。

※「Calibre nmDRC」に関する詳細は、メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社までお問い合わせ下さい。
http://www.mentorg.co.jp