米Clear Shape社、STARCの「ばらつき考慮のDFMフロー」開発に協力>>はらつき解析ツール「InShape」が採用される

2007年1月17日、ばらつき解析を中心としたDFMツールを手掛ける、米Clear Shape Technologies社は、STARCの「DFMフロー」開発に協力する事を発表した。
※STARC：株式会社半導体理工学研究センター

プレスリリース：http://www.clearshape.com/news070117.htm（英文）

発表によるとSTARCは、DFM問題への対処を中心に、45/32nmプロセスを見据えた設計フローの開発に取り組んでおり、そのフローにおいてClear Shapeのばらつき解析ツール「InShape」を採用。これを受けてClear Shapeは、STARCのDFMフローの開発に協力する形となった。

Clear Shapeの「InShape」は、昨年11月に発表されたばかりの新製品で、OPC/RETツールに依存せず独自のモデルを用いてチップのシステマチックなばらつきを短時間で解析。ルーティング中にホットスポットを特定し、テープアウト前にデザインを最適化する事ができる。

STARCは、OPCツールから独立したシリコン解析技術を持つ、「InShape」をSTARCのプロジェクトにとって理想的なツールとして評価。DFM対応の設計フローへの採用を決定したという。

※Clear Shape社製品に関する詳細は、昨年12月より販売代理店となった株式会社ジーダットにお問い合わせ下さい。
http://www.jedat.co.jp

※Clear Shape Technologies社
http://www.clearshape.com

※STARC：株式会社半導体理工学研究センター
http://www.starc.jp