BRIONが「Tachyon」を拡張した新製品「Tachyon LAD」を発表>>ケイデンス、マグマ、TOOLのEDAソリューションと共に提供

2007年5月28日、最先端のリソグラフィ・ソリューションを提供するASMLの子会社Brion Technologies社は、「Tachyon」を拡張した新製品「Tachyon LAD」を発表した。

プレスリリース：http://www.brion.com/pressPR_Details.asp?id=85（英文）

新製品「Tachyon LAD」の「LAD」は、「Lithography Aware Design」の略で、先進の45nm/32nmプロセスに対応する精度の高いOPC及びOPC検証能力を提供する製品。GDS-IIデータを読み込み、シリコンの輪郭やホットスポットを正確に予測し、テープアウト前にその対処法を設計者に示す。

「Tachyon LAD」は、実際に製造したフォトマスクの回路モデルを利用してシミュレーションを実施。既存の設計フロー/製造プロセス上で稼動可能なため、新たなプロセスをドライブする上での時間的コスト性も高い。

また、Brionによると「Tachyon LAD」は、Brionとパートナー関係にあるサードパーティー製EDAツールと共に提供される予定で、パートナーベンダとして、ケイデンス、マグマ、そして日本のTOOL社の名前が挙がっている。

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ケイデンス、米Brion社と米Clear Shape社との協業によりリソグラフィ考慮の設計フローを構築
https://www.eda-express.com/news/?m=p&idno=674

尚、「Tachyon LAD」は7月にベータリリースされる予定で、5月24日に発表されたSTARCとの共同開発のベースとなるのは、今回発表された「Tachyon LAD」だという。

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※「Tachyon」に関する詳細は、ブライオンテクノロジーズ株式会社にお問い合わせ下さい。
http://www.brion.com

※TOOL株式会社
http://www.tool.co.jp

※マグマ・デザイン・オートメーション株式会社http://www.magma-da.co.jp

※日本ケイデンス・デザイン・システムズ社
http://www.cadence.co.jp

※STARC（?半導体理工学研究センター）
http://www.starc.jp