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GLOBALFOUNDRIESが7nmプロセスの開発を断念
2018年8月27日、GLOBALFOUNDRIESは、7nm FinFET開発プログラムの無期限保留を発表した。
GLOBALFOUNDRIESは、技術ポートフォリオの改革という大義の下で7nm FinFET開発プログラムの無期限保留を決定し、7nmを超えるテクノロジー・ノードを追求する計画を全て打ち切った。これに伴い人員削減も実施される計画で、一部の報道によると5％の人員削減が予定されているという話。今回の決定により先端プロセスの開発リソースは14/12nm FinFETプラットフォームにシフトされ、RF、組込みメモリ、ローパワー技術などの開発に充てられる。またGLOBALFOUNDRIESは、ファウンドリー事業と分離した形でASIC事業を行う子会社を設立しており、先端プロセス向けのASIC設計サービスは子会社が継続して行う。
GLOBALFOUNDRIESが7nmプロセスの開発を断念した背景には、先端プロセスを求めるユーザーの減少と先端プロセス開発に伴う出費の拡大がある。GLOBALFOUNDRIESの脱落により、7nm/10nmプロセスを提供するファウンドリは、Intel、Samsung、TSMCの3社のみとなる。
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