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Mentorのリソグラフィ・チェック・ツール「Calibre LFD」、TSMC20nmプロセスで認証
2012年9月13日、Mentor Graphicsは、同社の提供するリソグラフィ・チェック・ツール「Calibre LFD」がTSMC20nmプロセスで認証されたことを発表した。
「Calibre LFD」は、プロセスの変動をとらえてレイアウトの確実性を高めるリソグラフィ・チェック・ツールで、設計の早期段階でリソグラフィ変動の影響を予測しホットスポットを特定する事が可能。プロセス変動の影響を受けにくい設計を実現出来る。
「Calibre LFD」は、TSMCの28nmプロセスでも認証されているほか、Samsung、GlobalFoundriesの20nmプロセスにおいてもリファレンス・ツールとして認証されている。
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