NEWS

 
SIEMENS
s2c
 

GLOBALFOUNDRIESが20nmプロセスでMentorのSmartFill機能を採用

2012年5月29日、Mentor Graphicsは、同社のDFM機能「SmartFill機能」をGLOBALFOUNDRIESが20nm製造プロセスで使用することを発表した。

プレスリリース文

発表によるとGLOBALFOUNDRIESは、同社最先端の20nm製造プロセスでMentorのDFMツール「YieldEnhancer」に搭載される高度な自動フィル挿入機能「SmartFill機能」の使用を決定。同機能を利用すれば設計者は、回路性能への影響とファイルサイズの増大を抑えつつ、正確なダミー・パターンの挿入を短時間で実現可能。GLOBALFOUNDRIESが提供するデザインキットと組み合わせて使用すれば、手作業を挟むこと無く1回の処理でICフィル制約を満たすことができという。

Mentorの「SmartFill機能」は、TSMCの65nm以降の製造プロセスにも対応している。

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社

= EDA EXPRESS 菰田 浩 =

(2012/05/30 )

 

ページの先頭へ