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SamsungとMentorが20nmプロセス向けDFMリファレンス・ソリューションを完成

2012年3月1日、Mentor Graphicsは、Samung Electronicsと共同でSamsung 20nmプロセス向けのDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションを完成させたと発表した。

プレスリリース文

Samsungはこれまでも32/28nmプロセス向けに、Mentorの「Calibre」をベースとしたDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションとして「Calibre」のキットを顧客に提供していたが、今回最先端の20nmプロセス向けのキットを完成させその評価を終えた。

Samsungの20nmプロセスに対応するDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションには、「Calibre LFD」、「Calibre nmDRC」、「Calibre YieldAnalyze」が含まれているという。

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社

= EDA EXPRESS 菰田 浩 =

(2012/03/02 )

 

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