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Mentorと日本電子が先端ICマスク描画ソリューションを共同開発
2011年11月25日、Mentor Graphicsは、電子ビーム描画装置を扱う日本電子株式会社（以下、JEOL）と先端ICマスク描画ソリューションを共同開発することを発表した。
発表によると両社は、先端ICマスク描画で使用するMentorのEDAソフトウェアとJEOLの描画装置を組み合わせた統合型ソリューションの共同開発を進めることで合意。現在、マスク描画時間の大幅な短縮に向けた新技法「マルチ・レゾリューション描画」の実現可能性を実証する研究を進めており、両社は同技法に則したソフトウェア（MDPおよびMPC）とハードウェア（描画装置）のインタフェースを提供することに主眼を置いているとの事。「マルチ・レゾリューション描画」が実現できると従来の描画技法よりもショット数を最大30%削減できるという。
MentorはCalibreファミリ製品として、「Calibre MDPmerge」、「Calibre MDPverify」、「Calibre nmMPC」、「Calibre MDPview」など各種MDP（マスクデータ準備）およびMPC（マスクプロセス補正）製品を展開しており、様々なマスク描画装置メーカーとのコラボレーションを積極的に進めている。
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