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Synopsysが仏CEA-Letiのマスクレス・リソグラフィ開発プロジェクトに参加

2011年9月19日、フランス原子力庁の電子・情報技術研究所CEA-Letiは、同研究所のマスクレス・リソグラフィ開発プロジェクトにSynopsysが参加した事を発表した。

プレスリリース文

「IMAGINE Program」と呼ばれている同プロジェクトは、CEA-LetiとオランダMAPPER Lithography社が2009年7月に立ち上げたもので、STMicroelectronics,TSMC,Mentor Graphicsらが参画しており、今回Synopsysが10社目のメンバーとなった。

プロジェクトとしては、大規模データをハンドリングするための標準フォーマットの確立を目指しており、その課題解決に向けてSynopsysの協力に期待しているという。

CEA-Liti

= EDA EXPRESS 菰田 浩 =

(2011/09/20 )

 

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