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Mentor「Calibre YieldEnhancer」がTSMC65nmプロセス以降のSmartFill機能をサポート
2011年9月15日、Mentor Graphicsは、同社のDFMツール「Calibre YieldEnhancer」がTSMCの65nm以降の製造プロセスに対応するSmartFill機能をサポートしたことを発表した。
発表によると「Calibre YieldEnhancer」のSmartFill機能は、TMSCの最先端プロセス・テクノロジの新たなフィル要件を満たす目的でTSMCとの提携の下で設計されたもので、同機能を使用することで手修正を必要とせずに1回の処理でICフィル制約を満たすことができる。
65nm以降のプロセス・ノードでは、製造面、設計面、両面においてフィルの影響度が増すため、フィル要件を満たしつつ最適化されたフィルを自動生成可能なSmartFill機能は、MentorのDFMソリューションにおける重要機能の一つと言える。
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