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Mentor、マスク描画/検査装置のニューフレアテクノロジーと連携強化

2011年9月21日、Mentor Grapphicsとマスク描画装置、マスク検査装置を手掛けるニューフレアテクノロジー社は両社のコラボレーション強化を発表した。

プレスリリース文

今回発表された両社のコラボレーション強化は、高度なマスク描画の実現を目的としたもので、Mentorのマスク作成ほか各種マスクデータ準備ツールやフラクチャリング・ツールの共同販売とサポートを推進するもの。

具体的には、ニューフレアテクノロジーのマスク描画装置「EBM-3000」から「EBM-8000」シリーズで使用される以下のツールがその対象となっている。

・Calibre FRACTUREt
・Calibre FRACTUREv
・Calibre MDPmerge
・Calibre MDPverify
・Calibre nmMPC
・Calibre MDPview

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社

株式会社ニューフレアテクノロジー

= EDA EXPRESS 菰田 浩 =

(2011/09/22 )

 

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