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TSMC、メンターの「Calibre® LFD™」を28nmプロセス向けに認定

2010年4月12日、メンター・グラフィックスは、同社の「Calibre® LFD™（Litho-Friendly Design）」ソリューションがTSMCの28nmプロセス・ノード向けに認定を受けたことを発表した。

プレスリリース文

TSMCのコメント（Senior Director of Design Infrastructure Marketing Shauh-Teh Juang氏）：

「最先端ノードにおけるリソグラフィの問題を正確に評価するには、TSMCのプロセスをそのまま再現できるモデルを手に入れるだけでなく、TSMCのプロセスモデルをEDAツールに組み込み、直面する問題を解決する必要があります。TSMCのUnified DFM（UDFM）の枠組みや、内蔵のLPCエンジン、Calibre LFDを含む、私たちの協業よる新たな手法により、メンター･グラフィックスおよびTSMC両社のお客様は、以前から数世代に亘り使用してきたCalibre検証プラットフォームを用いて、設計に関連するリソグラフィ・ホットスポットを特定し、修正することが出来ます。」

「Calibre LFD」は、プロセスの変動をとらえてレイアウトの確実性を高めることができるツールで、リソグラフィ変動の影響を予測しホットスポットを特定する事が可能。設計の早期段階で異なるレイアウトを比較する事が可能で、プロセス変動の影響を受けにくい設計を実現出来る。

※メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社

 

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