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TSMC、2010年Q2にツール非依存のDRC及びLVS用データ・フォーマットをリリース
2010年4月7日、TSMCは、EDAベンダ各社と共同開発したツール非依存の複数EDAフォーマットのリリース予定を発表した。
発表によるとTSMCは、EDA各社と共同開発した独自のDRC用データ・フォーマット「iDRC」とLVS用データ・フォーマット「iLVS」を2010年Q2にリリースする予定。これらはTSMCの65/45nmプロセス向けに用意されるもので、合わせて既に利用されているRCX用フォーマット「iRCX」の40/28nm版とPDK「iPDK」の40nm版もリリースされる予定。
これら各データ・フォーマットは、各社ツール固有のデータ・フォーマットに依存しない設計を実現すべく開発されたもので、「iDRC」と「iLVS」はメンター、シノプシス、マグマ、ケイデンスが開発に参加している。
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