2009年10月21日、メンター・グラフィックスは、米GLOBALFOUNDRIESと複数年契約を締結し、同社が「Calibre」プラットフォームを導入した事を発表した。
メンターによるとGLOBALFOUNDRIESは、32、28nm以降のプロセス・テクノロジをターゲットにした複雑な半導体デバイスの設計および検証、ならびにコンピュテーショナル・リソグラフィとマスクデータ作成フロー構築のために「Calibre」プラットフォームを導入。GLOBALFOUNDRIESは「Calibre」を導入した理由として、物理検証におけるメンターのリーダーシップと、包括的なRET、OPCおよびMDPソリューションの存在を指摘。これらメンターのツールとGLOBALFOUNDRIESのDFMを組み合わせることで、マスク作成までの期間を最短にできるとしている。
尚、GLOBALFOUNDRIESは、前身であるAMD半導体製造部門の時代からの「Calibre」ユーザー。今回のメンターとの複数年契約を受け、各国にあるメンターのサポート部隊と協力し、先端プロセスノードを使用した新製品を開発する顧客を支援していくという。
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