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【EDSFレポート】新興ベンダエリア：ALTOS社、シリコン・フロントライン・テクノロジ社
Electronics Design and Solution Fair 2009に出展していたALTOS社、シリコン・フロントライン・テクノロジ社のブースレポート。
新興ベンダエリアに出展していたセルキャラクタライズの注目ベンダALTOS Design Automation社と、新世代RC抽出ツールを提供するシリコン・フロントライン・テクノロジ社は、いずれも米国カリフォルニアを拠点とする企業で、丸紅情報システムズが国内代理店として製品を提供している。
ALTOSは既にSSTA用セル・キャラクタライゼーションのツールとして足場を築いているが、今回投入した新製品はエンベデッド・メモリのキャラクタライズを行うLibrateMXと、ライブラリのバリデーションを行うLibrateLV。
LibrateMXはメモリコア全体の中からワーストケース・パス、クリティカル・パスを自動的に切り出しそのパスについてダイナミック・パターンで精度の高いシミュレーションを実行するというアプローチで精度の高いキャラクタライズを行う。
メモリセル全体を漠然とFast SPICEでシミュレーションしても精度誤差は１０％もある。LibrateMXは効率的、高速に精度の高いキャラクタライズが行える。
シリコン・フロントライン・テクノロジ社はレイアウト抽出ツールの会社。３つの製品ラインがある。R3Dは、パワーMOS混載チップ用高精度・高速抽出／解析ツール、F3Dは、大規模・超高速 次世代３D寄生素子抽出ツール。 そして新製品のH3Dは、F3Dの階層対応版でより高速化が図れるという。欧米５社で採用されており、日本でも評価が行われている。
= レポーター 山田佳子 =
レポータープロフィール：
EDAツールのアプリケーション・エンジニアとして業界の成長とともにフロントエンドからバックエンドまで幅広い設計技術を経験。
好奇心と情熱に突き動かされるまま、様々な活動を展開中。
わくわくする技術とビジネスを語り合いながら飲めれば幸せ。
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