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NECエレクトロニクス、40nm以降のキャラクタライゼーションフローにメンターの「Calibre nmLVS」を採用

2008年11月13日、メンター・グラフィックスは、同社最新のLVSツール「Calibre nmLVS」をNECエレクトロニクスが採用した事を発表した。

プレスリリース：http://www.mentor.com/company/news/nec_electronics（英文）

「Calibre nmLVS」は、従来製品「Calibre LVS」に改良が加えられたメンターの新製品で、「Calibre nmDRC」、「Calibre nmOPC」などと同様に45nm以降のプロセスノードをターゲットとしている。

特徴的なのは、特定ユーザ向けの回路キャラクタライゼーションを可能にする「ADP extraction」と呼ぶパラメータ抽出機能で、今回NECエレクトロニクスは、同機能を用いて自社の先端プロセスを反映した高精度な回路特性情報を得ることに成功。従来の設計フローを変更することなく、より高い精度でのLSI設計を実現する「Calibre nmLVS」を40ナノプロセス以降の製品設計環境に標準的に適用することにした。

「Calibre nmLVS」には新機能の「ADP extraction」以外にも、インタラクティブなデバッグ機能や分散コンピューティングによるパフォーマンス向上などの機能強化が施されている。

※メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
http://www.mentorg.co.jp

 

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