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IBMとメンターが22nm対応コンピュテーショナル・リソグラフィ・ソリューションを共同開発

2008年10月2日、メンターとIBMは、22nmノード以降のチップ製造向けに次世代コンピュテーショナル・リソグラフィ･ソフトウェア・ソリューションを共同開発し、販売することを発表した。

プレスリリース：http://www.mentorg.co.jp/news/2008/081002.html

発表によると共同開発される新たなリソグラフィソリューションは、IBMのリソグラフィ・プロセス技術、アルゴリズム、高性能コンピューティング技術とメンターのOPCソリューション「Calibre nmPlatform」が組み合わされたもので、既存手法では克服できないと言われている22nmノード以降のチップ製造を実現するもの。

実際の共同開発はこれからで未だ現実レベルの話ではないが、両社は既にCellを用いたOPCソリューションの共同開発実績があり、22nmを視野に入れた業界初の試みとして今後に期待が高まる。

※メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
http://www.mentorg.co.jp

※日本アイビーエム
http://www.ibm.com/jp/

 

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