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メンターのDFMツール「Calibre nmOPC」がSemiconductor International誌のEditors Choice Best Product賞を受賞

2008年7月15日、メンター・グラフィックス社は、同社のDFMツール「Calibre nmOPC」がSemiconductor International誌のEditors Choice Best Product賞を受賞したことを発表した。

プレスリリース：
http://mentorg.co.jp/news/2008/080715.html

Semiconductor International誌のEditors Choice Best Product賞は、半導体製造関連の製品を対象に、記者の目によって選ばれた優れた製品を表彰するもので、今年の受賞製品の中でEDAツールは「Calibre nmOPC」ただ一つ。「Calibre nmOPC」は、今年の「INNOVATION AWARDS」（米EDN誌）も受賞しており、業界紙関連のアワードにて2冠達成となる。

「Calibre nmOPC」は、65nm以降の先端プロセスをターゲットに開発された、次世代のOPCツールで、マスク・レイヤに対して100%のシミュレーション・カバレッジを提供する新たなOCPアルゴリズムや「Cell Broadband Engine」を用いたリソグラフィ演算処理の高速化システムが大きな特徴。桁違いのTAT短縮効果が国内外の顧客に高く評価されている。

※メンター・グラフィックス・ジャパンL株式会社
http://www.mentorg.co.jp

 

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