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STマイクロが65nm以降の製造ばらつき対策でメンターのCalibre DFMプラットフォームを採用

2008年5月28日、メンター・グラフィックスは、STマイクロエレクトロニクスが「Calibre DFM」プラットフォームを採用したことを発表した。

プレスリリース：http://www.mentorg.co.jp/news/2008/080528.html

メンターの発表によるとSTマイクロは、65ナノメータ以降の製造ばらつきの制御を目的とした自社の「Litho Variability Analysisソリューション」にメンターの「Calibre LFD（Litho-Friendly-Design）」を含む「Calibre DFM」プラットフォームを採用。

STマイクロは、メンター以外の市販ツールの評価も実施したが、精度、速度、既存の設計フローとの親和性という観点から、130nm以降利用しているメンターのCalibre製品群の採用を決定したという。

「Calibre LFD」は、国内では昨年富士通が導入を発表したほか、今年に入ってSTARCがSTARCAD-CELプロジェクトの一環として導入を発表している。

※メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
http://www.mentorg.co.jp

 

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