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IMEC、45nm以降をターゲットとするプロセスのばらつき解析手法を発表>>設計と製造を橋渡し

2008年3月11日、ベルギーの研究機関IMECは、45nm以降のプロセスのばらつき解析手法を発表した。

プレスリリース：http://www.imec.be/wwwinter/mediacenter/en/IMEC_NR_VAM.shtml（英文）

IMECは、新たに開発したプロセスのばらつき解析手法を「VAM：Variability-Aware Modeling」フローと呼んでおり、同フローを用いる事で45nm以降の製造プロセスのばらつきや欠陥を解析することが可能となり、それらがシステムのパフォーマンスに与える影響を評価できるとしている。

フローの詳細は明らかにされていないが、VAMフローは、プロセスのばらつき情報を上流のシステムレベルまで引き上げ、製造前の設計段階でプロセスのばらつきに対処する事を狙ったもの。IMECによると、VAMフローは市販のDFMツールに取り込むことも可能で、既に同フローを用いて、TSMC45nmプロセスをターゲットとしたARM9プロセッサの性能と消費電力を評価し、その有効性を確認しているという。

※IMEC
http://www.imec.be

 

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