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TOOL、フラクチャリングシステム「MaskStudio」をバージョンアップ>>従来製品と比較して処理時間は1/5、出力ファイルサイズを1/3削減

2007年4月3日、バックエンド設計向けの多目的表示プラットフォームを手掛ける、日本のEDAベンダTOOL社は、フラクチャリングシステム「MaskStudio Ver.6」のリリースを発表した。

プレスリリース：http://www.tool.co.jp/NewsItem/Lavis/News20070403Jp/

TOOLの「MaskStudio」は、レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するフラクチャリング・ツールで、国内のマスクショップなどを主なターゲットに提供されている製品。

今回のバージョンアップでは、内部の処理エンジンが新しいものへと作り変えられ、ほぼ新製品として大幅な機能アップを実現。図形のリサイズ処理を加えた変換処理は、従来のバージョンの1/5の時間で実行でき、出力されるファイルサイズも2/3程度に縮小することが可能となった。

また、over 32-bit integerを含む「OASISフォーマット」の入出力に完全に対応したほか、compressやgzip、bzip2、7zipといった圧縮ファイルをそのまま入力し、指定した形式で圧縮出力できる機能も追加。更に、OPC処理後のレイアウトデータをMask Rule Checkする「MRC機能」も用意され、これまで以上にMDP工程におけるTAT短縮と品質向上に貢献するという。

尚、「MaskStudio Ver.6」は、4月17日からパシフィコ横浜で開催されるPhotomask Japanにて、出展される予定。製品に関する詳細は、TOOL株式会社にお問い合わせ下さい。

※TOOL株式会社
http://www.tool.co.jp

※Photomask Japan
http://www.photomask-japan.org

 

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