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Photomask Japan 2007、パシフィコ横浜で開幕>>出展社のシノプシスとNGRがコレボレーションを発表

2007年4月17日、「Photomask Japan 2007」第14回ホトマスク技術展示会がパシフィコ横浜で開幕した。

「Photomask Japan 2007」公式ページ：http://www.photomask-japan.org

「Photomask Japan」は、ホトマスク及びNGLマスクに関する技術の国際会議で、今年は3日間で計15の技術セッションが行われる予定。中には、OPC、RET、MDP、SimulationなどEDAツールの関わる論文発表も含まれている。

併催する技術展示会には、加工・検査装置メーカーを中心に、EDAツールベンダや材料メーカー等、計48社が出展。EDAベンダとしては、ケイデンス、シノプシス、メンター・グラフィックスの大手3社に加え、ブライオンテクノロジーズ、Invarium、SoftJin、日本のTOOL株式会社、ジーダット株式会社が出展している。

尚、展示会初日に当たる17日付けで、出展していたシノプシスとマスク欠陥検査装置メーカーの株式会社ナノジオメトリ研究所（NGR）が両社のコラボレーションを発表。シノプシスのOPCツール「Proteus」とNGRのウエハー検査システム「NGR2100」を繋ぐインタフェースを開発している事を明らかにした。

シノプシスの「Proteus」に、NGRの「NGR2100」から2次元構造のウエハーパターンデータを自動的に取り込む事で、45nm以下のOPCモデルをより正確かつ短時間で作成する事ができるようになるという。

プレスリリース：http://www.synopsys.com/news/announce/press2007/snps_ngr_pr.html（英文）

来日していたシノプシスのDFM部門VP、Anantha Sethuraman氏は、今回の発表も含め同社のDFMソリューションについて次のように語った。

「OPCモデルの作成も含め、GDSII以下の製造フローにおいてはその精度と共にCoO（Cost of Ownership）がとても重要で、シノプシスは様々なDFMソリューションにおいて時間的なコスト削減にも力を注いでいる。」

「シノプシスのDFMソリューションは、テストツールとイールドマネジメントツール、CMPツールと寄生素子抽出ツール、TCADとSPICEシミュレータなど自社ツール間の豊富な連携によって、高い精度と運用性を実現している。それらDFMソリューションを含め、RTLからシリコンまで一貫した設計ソリューションを提供出来るのは当社だけだろう。」

※日本シノプシス株式会社
http://www.synopsys.co.jp

※株式会社ナノジオメトリ研究所
http://www.nanogeometry.com/jp/

 

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