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シノプシスとニコンが45nmリソグラフィ・モデルの共同開発を発表

2006年9月20日、米カルフォルニア州モントレーで開催中の「PHOTOMASK TECHNOLOGY CONFERENCE」にて、シノプシスとニコンは、45nm以下のリソグラフィ・ソリューションの共同開発を発表した。

プレスリリース：http://www.synopsys.com/news/announce/press2006/snps_nikon_pr.html（英文）

シノプシスの発表によると、両社の共同開発がフォーカスするのは、製造性を考慮した次世代のOPCおよびRETシミュレーション・モデルの開発で、ニコンの個々のリソグラフィ・システム特有のリソグラフィ・シミュレーション・モデルの開発に着手する。

リソグラフィ装置の特徴を取り込む事でシミュレーション・モデルの精度が高まり、歩留まり向上とマスク検証時間の削減の両方を実現できるという。

※日本シノプシス株式会社
http://www.synopsys.co.jp

※株式会社ニコン
http://www.ave.nikon.co.jp/pec_j

 

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