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Photomask Japan 2006 第13回ホトマスク技術展示会がパシフィコ横浜で開催
2006年4月18日、パシフィコ横浜会議センターにおいて、「Photomask Japan 2006」第13回ホトマスク技術展示会が開催された。
「Photomask Japan 2006」公式ページ：http://www.ics-inc.co.jp/pmj/index.html
第13回ホトマスク技術展示会は、ホトマスク及びNGLマスク等に関連する技術、材料、加工・検査装置、ソフトウェア等の国際的な情報・技術交流の場として位置づけられており、会期は4月19日（水）まで。シンポジウムは、4月20日（木）まで行われる。
EDAベンダとしては、日本からTOOL株式会社、ジーダット株式会社が出展。その他、タナーリサーチジャパン株式会社、日本ケイデンス・デザイン・システムズ社、日本シノプシス株式会社、ブライオンテクノロジーズ株式会社、メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社などの海外ベンダも出展している。
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