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NECエレ、ソニー、東芝、45nmプロセスの共同開発を正式発表

2006年2月1日、NECエレクトロニクス、東芝、ソニーの3社は、45nm世代に対応するシステムLSIプロセス技術を共同開発することで合意したと発表した。

プレスリリース：http://www.toshiba.co.jp/about/press/2006_02/pr_j0101.htm（東芝）

ソニーと東芝は、2004年2月に45nm世代のプロセス技術の共同開発を発表し、横浜市にある「東芝アドバンストマイクロエレクトロニクスセンター」を拠点に共同で技術開発を進めていた。

また、NECエレクトロニクスと東芝は、昨年11月に同じく45nm世代のプロセス技術の共同開発を発表したばかりであった。

今回の合意によって、ソニーと東芝の共同開発に、NECエレクトロニクスの45nm開発要員が参画する形となり、3社の開発リソースを東芝アドバンストマイクロエレクトロニクスセンターに集結し、45nm世代のシステムLSIプロセス技術開発を進めて行くという。

尚、45nmプロセス技術の開発については、松下電器とルネサステクノロジも共同開発の方向で調整を続けていると見られている。

※関連ニュース
日立、東芝、ルネサスの３社、LSIの共同生産へ一歩前進
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松下とルネサス、45ナノプロセスの共同開発に向けて最終調整
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