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米Invarium、新たなパターン合成技術を武器にスタートアップ>>RET/OPCに代わる「PPC」製品を発表

2006年2月8日、65nmおよび45nmプロセスに向けた新たなパターン合成技術を提供する、米国のEDAベンチャーInvarium社は、同社初の製品となる「DimensionPPC」を発表した。

プレスリリース：http://www.invarium.com/news/2006_0208.html（英文）

Invariumは、この新製品を既存のRET/OPCツールに代わる「full-chip process and proximity compensation (PPC) product」と呼び、「DimensionPPC」によって現在のRET/OPCツールや、その他のプロセス効果に対するレイアウト補正技術の問題点を克服することが出来るとしている。

この「DimensionPPC」は、PPCモデルと呼ばれる解析モデルとマスクレイアウトの合成エンジンで構成されており、PPCモデルによってあらゆるプロセス効果、プロセスバリエーションに対応したICレイアウトの正確なシミュレーションを行う事が可能。それによって最適なマスクレイアウトを合成する。

尚、顧客名は明らかにしていないが、現在すでに製品を導入済みの企業があるほか、5つの半導体メーカーが製品を評価中。実際に2005年第4四半期に、マスク生産に適用された実績があるという。

※Invarium社
http://www.invarium.com/index.html

 

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