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メンターの「CalibreMDP」が45nmプロセス、OASISベースのマスク製造フローに対応

2006年2月16日、メンターは同社のMDPツール「CalibreMDP」が45nmプロセス、OASISベースのマスク製造フローに対応したことを発表した。

※MDPツール：Mask data preparation tool、マスク製造データの生成ツール
※OASIS：Open Artwork Systems Interchange Standard、GDS-IIに代わる次世代データフォーマット

プレスリリース：http://www.mentor.com/company/news/calibre_mdp_45nm.cfm（英文）

「CalibreMDP」は、製造データの激増が初めて起こった180nmノードの時代に開発された製品で、その当時からマスク設計におけるRET処理が必須となりはじめ、それによりデータファイル量が増加、マスク・ライティングにかかる時間も延びてきていた。

新しい「CalibreMDP」は、OASISフォーマットによるデータファイルのサイズ削減、ツールのパフォーマンスと許容量の強化、ジオメトリ処理の統一と効率化によって、これまでのボトルネックを減らし、マスク製造のTATを短縮することが可能。MEBES、JEOL、Toshiba/NuFlare、 Hitachi、Micronic、など全てのマスクライターフォーマットをサポートしているという。

メンターは、2月19日よりサンノゼで開催される「2006 SPIE Microlithography conference」にて、Calibreによるマスク・シンセシスフローのデモンストレーションを行う予定で、合わせて新製品「Calibre OPCverify」も展示される。

※関連ニュース「メンター、新RETツール「Calibre OPCverify」を発表」
http://www.eda-express.com/news/?m=p&idno=248

※「CalibreMDP」に関する詳細は、メンター・グラフィックス・ジャパンにお問い合わせ下さい。
http://www.mentorg.co.jp/index.html

※2006 SPIE Microlithography conference
http://spie.org/

 

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